光刻機(jī)和刻繪機(jī)有什么區(qū)別
光刻機(jī)和刻繪機(jī)在原理和應(yīng)用上存在顯著的區(qū)別。
光刻機(jī)是一種利用光學(xué)原理,通過(guò)光掩模將設(shè)計(jì)好的圖形投射到半導(dǎo)體材料表面制造微細(xì)結(jié)構(gòu)的設(shè)備。它采用類似照片沖印的技術(shù),將掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)主要用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件制造等領(lǐng)域,其制造過(guò)程需要集合精密光學(xué)、精密儀器、高分子物理與化學(xué)、機(jī)械自動(dòng)化軟件、高精度環(huán)境控制和流體力學(xué)等多種世界先進(jìn)技術(shù)...
發(fā)布于:2024-06-24
| 作者:佚名
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